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立式化学气相沉积炉(碳化硅)
产品描述:
立式化学气相沉积炉可用于以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层、基体改性等。
应用范围:

立式化学气相沉积炉(碳化硅)技术特征

采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;

采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强; 

采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理;

采用最新设计防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低。

立式化学气相沉积炉(碳化硅)产品规格

参数\型号VCVD-0305-SICVCVD-0608-SICVCVD-0812-SICVCVD-1015-SICVCVD-1120-SICVCVD-1520-SIC
工作区尺寸D×H(mm)300×500600×800800×12001000×15001100×20001500×2000
最高温度(℃)150015001500150015001500
温度均匀性(℃)±7.5±7.5±7.5±7.5±10±10
极限真空度(Pa)505050505050
压升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.67

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

立式化学气相沉积炉(碳化硅)配置选择

炉门:丝杠升降/液压升降/手动升降;手动锁紧/自动锁圈锁紧  

炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢

炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC   

加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨

工艺气路系统:体积/质量流量计;手动阀/自动阀;进口/国产 

真空泵和真空计:进口/国产

PLC:欧姆龙/西门子              

控温仪表:日本岛电/英国欧陆 

热电偶:C分度号/S分度号/K分度号/B分度号  

记录仪:无纸记录仪/有纸记录仪;进口/国产

人机界面:模拟屏/触摸屏/工控机                                 

电器元件:正泰/施耐德/西门子

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